光刻
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台积电重申A14制程工艺不需要High-NA EUV，暂时还没有采用新技术的时间表
上个月，台积电（TSMC）在2025年北美技术论坛上公布了下一代A14制程工艺，计划2028年投产，相比于N2带来了重大进步。随后有报道称，台积电已经决定在A14制程工艺上不引入High-NA EUV光刻技术，仍然坚持使用原有的EUV光刻设备。不过外界对台积电的做法依然持怀疑态度，毕竟原来的说法是EUV只能到A16制程工艺。 据TomsHardware报道，…
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台积电决定A14制程不使用High-NA EUV技术，为客户提供更实惠的解决方案
近日台积电（TSMC）举办了2025年北美技术论坛，公布了下一代A14制程工艺，旨在通过提供更快的计算和更高的能效来推动人工智能（AI）转型。台积电称，A14制程工艺计划2028年投产，目前的开发进展顺利，良品率比预期的要高。按照过去的说法，虽然台积电在A16上选择不采用High-NA EUV光刻技术，但是到了A14会选择加入。 据Bits and Chip…
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传ASML取消与三星合作的半导体研究设施，转而寻求替代方案
2023年末，三星与ASML签署了一项价值1万亿韩元的协议，双方将在韩国京畿道东滩投资建设半导体芯片研究设施，并在那里共同努力改进EUV光刻制造技术。与此同时，三星还获得了High-NA EUV光刻设备技术的优先权。 据TrendForce报道，ASML现在似乎放弃了与三星的合作建设半导体芯片研究设施，开始将早期购买的土地出售。据了解，ASML在去年购入了6…
